科研實驗專用 碳化硼靶材B4C磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

碳化硼（B4C），別名黑鉆石，堅硬黑色有光澤晶體，具有密度低、強度大、高溫穩定性以及化學穩定性好的特點；硬度比工業金剛石低，但比碳化硅高；不受熱氟化氫和硝酸的侵蝕，溶于熔化的堿中，不溶于水和酸，是已知堅硬的三種材料之一（其他兩種為金剛石、立方相氮化硼），；碳化硼可以吸收大量的中子而不會形成任何放射性同位素，因此它在核能發電場里它是很理想的中子吸收劑；碳化硼制造容易、成本低廉，因而使用更加廣泛，在某些地方可以取代價格昂貴的金剛石、常見在磨削、研磨、鉆孔等方面的應用。
      產品參數
中文名碳化硼            分子式B4C
相對分子質量 55.26      沸點 大于3500℃
熔點 2350℃             密度 2.52g/cm3
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價??！ 
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
        陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。